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    西安實驗室設備定制對射頻放電原理的研究

    2020-12-04 16:00:51

          西安實驗室設備定制大氣壓射頻放電(頻率為1~500MHz)冷等離子體源早在20世紀70年代及應用于固體表面的膜制備。

           在大氣壓條件下采用裸露金屬電極結構的等離子體發生器產生射頻輝光放電等離子體處理有機廢氣有諸多優點。首先,大氣壓氣體放電不需要真空腔,降低了設備的建造和維護成本,解決了實際應用中受真空腔體限制的問題,使得等離子體處理操作更加靈活方便;其次,同大氣壓介質阻擋放電相比,不需要在電極表面覆蓋介質層,因此西安實驗室設備定制可以在較低的擊穿電壓下產生大面積、均勻的輝光放電等離子體。射頻等離子體放電和直流放電相比,能夠在較低的氣壓下工作(等離子體的阻抗隨著頻率的增大而減?。?、有效電離機制和空間分布均勻;與微波放電相比,射頻電源價格更便宜且電源功率更大,以上這些特點使得射頻等離子體成為工業應用最普遍的選擇。

           射頻等離子體放電可以分為:a.電感耦合等離子體(ICP),利用感應電場給等離子體提供能量。作為新一代的等離子體源具有較高的等離子體密度。射頻電感耦合等離子體源由于結構簡單、能產生高密度的純凈等離子體、使用壽命長以及性價比好的優點,所以近年來發展很快。但是ICP較大的缺陷是電感與等離子體之間的靜電感應耦合,等離子體對天線的濺射作用給等離子體帶來了污染,而線圈中心區域的等離子體密度較低。b.電容耦合等離子體(CCP),主要利用靜電場加速電子。該電源能夠生成大面積等離子體,低氣壓時,放電發光分布均勻,即使絕緣材料放置在電極上,也能夠維持大面積穩定的等離子體狀態。而等離子體鞘層電壓可以達到上千伏,當等離子通過鞘層時,由鞘層電壓加速,獲得很高的能量。缺點是在進行工藝處理時容易引起器件的損壞。

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           所謂的高頻耦合方式是指高頻電源向等離子體傳遞能量的方式。實際上,高頻是指特殊頻段的電磁波,它的能量可以分為電場能量和電磁能量。由于只有高頻電場才能加速電子以及電離中性氣體產生等離子體,所以西安實驗室設備定制高頻耦合方式也就是等離子體中高頻電場的產生方式及電子及電場的作用方式。


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